微弧离子镀是将真空腔内的伏安特性置于由稳态的辉光放电向稳态的弧光放电过渡时，气体放电双峰曲线上客观存在的非稳态正反欧姆转变区间，利用因靶面放电而产生的热积累至局部微熔的延缓间隔，实现靶面镀料粒子经溅射的级联碰撞脱靶机制演变为热发射脱靶（未达到熔融喷射程度）机制，从原理上既提高了脱靶粒子的离化率，又避免了“微熔滴”喷射的“高温效应”。 微弧离子镀的开发是结合了溅射镀膜与多弧镀膜两者镀料粒子溅射出与沉积成膜上的优点，同时也避免了两者在成膜过程中的不足之处，使成膜质量与效率得以大幅提高。